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High-NA EUV光刻机的商业化应用障碍有哪些？ New xds152213 4 分钟前 00 xds152213 4 分钟前
EUV光刻的下一代技术发展方向是什么？ New radishecho 9 分钟前 00 radishecho 9 分钟前
光刻技术的分辨率极限在哪里？ New hadmiss 15 分钟前 00 hadmiss 15 分钟前
晶圆缺陷密度如何进一步降低？ New haofuping 20 分钟前 00 haofuping 20 分钟前
工艺变异对芯片良率的影响如何控制？ New gsy817 26 分钟前 00 gsy817 26 分钟前
短沟道效应在纳米尺度如何有效抑制？ New liluoyang66 半小时前 00 liluoyang66 半小时前
电压下降带来的电路可靠性问题如何解决？ New tx2003 半小时前 00 tx2003 半小时前
登纳德缩放定律失效后如何继续提升性能？ New sa987654 半小时前 00 sa987654 半小时前
功耗墙问题是否有根本性突破方案？ New wangmazi 半小时前 00 wangmazi 半小时前
芯片发热问题在更小节点如何解决？ New chinatjlxy 半小时前 00 chinatjlxy 半小时前
2nm及以下工艺节点的可行性如何？ New ygwang66 半小时前 00 ygwang66 半小时前
GAA晶体管的实际量产面临哪些技术障碍？ New ynlangzi 1 小时前 00 ynlangzi 1 小时前
FinFET技术之后下一代晶体管结构是什么？ New lixiaominh 1 小时前 00 lixiaominh 1 小时前
半导体材料是否存在替代硅的更好选择？ New xgf1227 1 小时前 00 xgf1227 1 小时前
量子隧穿效应如何限制晶体管进一步微缩？ New cmmx123456 1 小时前 00 cmmx123456 1 小时前
物理极限下晶体管的尺寸能缩小到什么程度？ New wzf2299 1 小时前 00 wzf2299 1 小时前
摩尔定律是否已经失效？ New lishifeng 1 小时前 00 lishifeng 1 小时前
摩尔定律的最终遗产会是什么？ New wangfeibin 1 小时前 00 wangfeibin 1 小时前
未来计算技术的突破点在哪里？ New yhl52787 1 小时前 00 yhl52787 1 小时前
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